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刻蝕機(jī) 半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備，刻蝕機(jī)工廠

產(chǎn)品型號：IBE/RIE干法刻蝕
產(chǎn)品代碼：
產(chǎn)品價(jià)格：400000
計(jì)量單位：臺(tái)
折扣率： 0
最后更新：2025-05-13
關(guān) 注度：6086
生產(chǎn)企業(yè)：成都超邁光電科技有限公司

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產(chǎn)品詳細(xì)介紹    超邁光電大口徑刻蝕機(jī)主要用于半導(dǎo)體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實(shí)現(xiàn)納米級的精密刻蝕。對復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。

    成都超邁光電科技有限公司，為國家高新技術(shù)企業(yè)、國家標(biāo)準(zhǔn)擬定單位、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè)、新經(jīng)濟(jì)雙百企業(yè)，已通過GB/T與GJB雙體系認(rèn)證。

    公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術(shù)提升，具有全系列涂層服務(wù)裝備和檢測手段，已申請國家專利60余項(xiàng)，授權(quán)專利與軟件著作權(quán)50余項(xiàng)，擬定國家標(biāo)準(zhǔn)2項(xiàng)，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng)，為中國物理學(xué)會(huì)固體缺陷專家委員單位，全國電熱裝備標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)單位，已形成工業(yè)級、科研級和特殊級三大產(chǎn)品系列，公司在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產(chǎn)業(yè)園，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設(shè)施建設(shè)，具備強(qiáng)大的研發(fā)和制造能力。

成都超邁光電科技有限公司

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